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概伦电子作为SPICE模型解决方案的**厂商及业界*的良率导向设计(DFY)技术供应商，于2012年推出NanoYield—专为存储器、逻辑和模拟电路设计所研发的快速而精准的良率预测和优化软件。

静态随机存取存储器(SRAM)的良率受局部工艺漂移所限制，这种情况在*工艺制程、在28纳米及以下的工艺节点上尤为突出。在传统的工艺开发中，工程师需要同时运行多个不同的工艺批次，然后对结果加以分析来判断工艺漂移对SRAM良率的影响，在耗费时间的同时也增加了开发成本。在IBM授权技术基础上改进和开发且通过硅的NanoYield高良率分析技术(HS-Pro)，可以成几个数量级地缩短传统蒙特卡罗(Monte Carlo)用于高良率(High Sigma)分析的*时间。通过运行一系列代表不同工艺改进的计算机*，工程师可以利用NanoYield高良率分析技术在工艺制程开发的早期对SRAM良率进行*6s的快速预测和验证，帮助半导体*厂在*工艺开发过程中更好地控制成本，加快上市的进程，同时为其客户提供更好的产品良率。

中芯国际与概伦电子在*SPICE建模领域已合作多年，双方已建立长期的战略合作关系，本次合作将延伸到面向良率*的工艺制程技术研发和设计流程改进等。在此次合作中，中芯国际采用NanoYield对28纳米、20纳米及以下工艺节点的*工艺制程开发中的SRAM进行优化。“NanoYield已成为我们工艺制程开发流程中的重要组成部分。”中芯国际技术研发执行副总裁李序武博士表示，“NanoYield可以帮助我们改进工艺，减少实现良率目标所需的时间。”

“中芯国际是我们*有价值的合作伙伴之一”，概伦电子董事长兼总裁刘志宏博士表示，“通过双方的紧密合作，中芯国际28纳米工艺制程的开发已采用NanoYield高良率解决方案进行SRAM良率的优化。早期的SRAM良率的验证可以增强客户和IP合作伙伴的信心，从而加快产能*的步伐。”